パルスレーザーデポジション（PLD）装置

概要

1990年代のPLD黎明期より、現場の声に耳を傾け、一つひとつの改良を積み重ねてきたPLD装置です。

数値化できない使い勝手の良さや、随所に散りばめられた工夫こそが、多くのユーザー様より高い評価をいただいております。

パルスレーザーデポジション（PLD）は、真空中で高出力パルスレーザーを物質（ターゲット）に照射し、

発生したプルーム（蒸発粒子）を基板に堆積させて薄膜を形成する物理気相成長法（PVD）になります。

組成ずれが少なく、高温超伝導体や酸化物薄膜などの高品質なエピタキシャル膜を低温で成膜できるのが特徴を持っています。

特長

• モバイルタイプ：コンパクトなタイプで他の装置との接続に向いたモデル
• cKKタイプ：モバイルタイプより予備ポートを増やし、将来への拡張性を向上させたモデル
• Scriptコマンドによる自動運転プログラム

（成膜途中でも条件変更が可能なプログラムで実験をされる方々のツールになっております）

仕様

※本ページに記載された内容は予告なく変更する場合がありますのでご了承ください

導入実績

• 各大学・研究機関（日本、米国、韓国、中国、ドイツ、スイス、オーストラリア、インドなど）

オプション

• RHEEDシステム（差導排気型、画像処理）
• フラグスタイルサンプルプレート（Scienta Omicron社製）
• 圧力コントロール制御
• 自立運転（AIからの実行コマンドに合わせて動作条件を変更）
• レーザー架台
• 水晶式隔膜真空計 Qruva™（QG1000）