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真空アニール装置

  • 概要

    材料(試料)が酸素や炭素のような汚染物質に晒されないようにし、真空環境は酸化や汚染を防ぎ、材料が望ましい特性を保つ為の真空アニール装置です。

  • 特長

    • バッチ式
    • ニクロムヒーター、ハロゲンヒーター対応可
    • 急加熱、急冷対応可能
  • 仕様

    到達真空度 5.0×10E-5Pa以下
    ヒーター種類 ニクロムヒーター/ハロゲンヒーター
    アニール温度 300℃まで(応相談)
    制御 PLC制御
    ラフポンプ ドライ真空ポンプ/ロータリーポンプ
    メインポンプ ターボ分子ポンプ/クライオポンプ

    ※本ページに記載された内容は予告なく変更する場合がありますのでご了承ください

  • 用途例

    • 各種試料のアニール処理
    • 水晶デバイスのアニール処理用
  • 導入実績

    • 某水晶デバイスメーカー
  • オプション

    • 様々な棚板サイズ
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